一、CVD真空管式爐概述

真空管式爐主要應(yīng)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。主要用于粉體、電子、陶瓷等其它產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等

二、CVD真空管式爐特點(diǎn)

1、爐膛材料采用進(jìn)口陶瓷纖維，呈現(xiàn)溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)；

2、電熱元件采用進(jìn)口高電阻合金絲，表面負(fù)荷高，發(fā)熱速度快；

3、爐體兩端采用不銹鋼密封法蘭，耐高溫、耐腐蝕；

4、保護(hù)管采用高純石英管 ，氣管采用密封快接插頭，安裝方便；

5、爐體采用雙層空氣隔熱技術(shù)，配有自動(dòng)冷卻風(fēng)扇，降低爐體外殼溫度；

6、控制系統(tǒng)采用進(jìn)口40段程序控溫，控溫精度±1℃，移相觸發(fā)、可控硅控制；

三、CVD真空管式爐參數(shù)

注：可根據(jù)用戶要求另行設(shè)計(jì)制造，更多規(guī)格及參數(shù)和詳細(xì)技術(shù)方案請(qǐng)來電咨詢！