本公司生產(chǎn)的真空鍍膜電源（真空蒸發(fā)鍍膜電源和真空濺射鍍膜電源）有以下特點(diǎn)：

1、恒流輸出，不隨氣壓變化。

2、抑制靶材弧光放電及抗短路功能, 具有的負(fù)載匹配能力。

3、工藝重復(fù)性好。

4、提高成膜速度， 實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的濺射膜層。
 詳細(xì)說明：
                                         真空鍍膜電源                                      

真空鍍膜行業(yè)不同于以往的電鍍行業(yè)，屬于物理方式的表面處理行業(yè)。廣泛用于各種金屬及非金屬鍍膜裝置，涂鍍光元件、微電子元件、磁性元件、鐘表、種類裝飾材料、體育用品、精密工模具、薄膜包裝等鍍膜制品，以及應(yīng)用于現(xiàn)代工業(yè)、航空航天航海等軍事領(lǐng)域的鍍耐蝕膜、耐磨損膜、固體潤(rùn)滑膜裝置。    真空鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩?span style="font-family:arial">                                                                             （HV,UHV）而擁有統(tǒng)一名稱。真空鍍膜主要分類有兩個(gè)大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。                                                      

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜： 一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。                                                                    

二 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。
     真空鍍膜電源是真空鍍膜設(shè)備的重要組成部分。例如在真空濺射設(shè)備中就是由濺射室、磁控濺射靶、對(duì)向磁控靶、射頻電源、直流電源、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、真空獲得及測(cè)量系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、微機(jī)控制膜層系統(tǒng)等組成。      

     本公司自主研發(fā)生產(chǎn)的真空鍍膜電源，成功地運(yùn)用了優(yōu)異的脈寬調(diào)制技術(shù)（PWM），引進(jìn)三菱、富士等國(guó)外先進(jìn)的IGBT核心執(zhí)行元件，大功率機(jī)器采用結(jié)構(gòu)均流技術(shù)，并配以各種完善的保護(hù)功能，使得高頻開關(guān)電源可靠性問題得到了圓滿解決，滿足低紋波要求，且體積小、重量輕、節(jié)能環(huán)保，是一種性價(jià)比優(yōu)異的直流電源產(chǎn)品，也是可控硅整流電源的替代品。                  

·                              技術(shù)參數(shù)

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