簡單介紹

ICP等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP)，能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠)，達到晶圓表面潔凈，具有蝕刻率高，無電極污染，離子能量低，不損傷基板等優(yōu)點。

在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，晶圓表面會涂上光刻膠，然后光刻，顯影。但光刻膠只是圓形轉(zhuǎn)化的媒介，當(dāng)光刻機在光刻膠上形成納米圖形后，需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可以實現(xiàn)此功能。它用射頻或微波方式產(chǎn)生等離子體，同時通入氧氣或其他氣體，等離子體與光刻膠進行反應(yīng)，形成氣體被真空泵抽走。 

產(chǎn)品描述

>> 產(chǎn)品特點
ICP等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP)，能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠)，達到晶圓表面潔凈，ICP等離子清洗機具有蝕刻率高，無電極污染，離子能量低，不損傷基板等優(yōu)點。
>> 應(yīng)用產(chǎn)業(yè)
．殘余光阻去除
．藍(lán)膜殘膠去除
．PSS 來料清潔制程
◆ 等離子發(fā)生器(美國MKS)
頻率13.56MHZ,功率0-1000W連續(xù)調(diào)節(jié),自動阻抗匹配,全電路保護,可連續(xù)長時間工作
◆ 控制系統(tǒng)
PLC觸摸屏控制,采用歐姆龍、西門子等電器元件，性能穩(wěn)定可靠,并具有手動、自動兩種模式
◆ 真空系統(tǒng)(真空壓力PID閉環(huán)自動控制)
日本愛發(fā)科(ULVAC)機械真空泵 VDN901 (23L/S)
臺灣氣動真空角閥、充氣閥、DN40不銹鋼真空波紋管、德國英?？祲毫鞲衅?/span>
◆ 充氣系統(tǒng)
美國MKS高精度電子質(zhì)量流量計(四路氣體配制)
美國世偉洛克SWAGELOK氣體管路及接口組件，德國雙級減壓閥
日本SMC及CKD高真空氣閥組件