WB300微波等離子清洗機采用高密度微波等離子技術(shù)，用于半導(dǎo)體生產(chǎn)中晶圓的清潔和等離子體預(yù)處理，微波等離子高度活性、，且不會對電子裝置產(chǎn)生離子損害微波等離子清洗機具有高度活性、，且不會對電子裝置產(chǎn)生離子損害。 

微波等離子清洗機主要用途：
·等離子體表面改性
·有機物表面等離子體清潔
·邦定強度增強
·等離子體刻蝕應(yīng)用
·等離子體灰化應(yīng)用
·增強或減弱浸潤性
·其它等離子體系統(tǒng)應(yīng)用
◆ 控制系統(tǒng)
觸摸電腦+PLC全自動控制,采用歐姆龍、西門子品牌電器元件，性能穩(wěn)定可靠,并具有手動、自動兩種模式
◆ 真空系統(tǒng)(真空壓力PID閉環(huán)自動控制)
英國愛德華斡旋式干泵 GV40
◆ 充氣系統(tǒng)
美國MKS高精度電子質(zhì)量流量計(2路氣體配制)
美國世偉洛克氣體管路及接口組件，德國雙級減壓閥
日本SMC及CKD高真空氣閥組件